刻蚀已经成为半导体晶圆制造中的关键步骤，在半导体制造中重要性凸显。半导体制造主要步骤包括光刻、刻蚀、以及薄膜沉积三大步骤，并且不断循环进行，以构造出复杂精细的电路结构。

许多刻蚀设备供应商开始推出下一代选择性刻蚀工具，为新的存储器和逻辑器件铺平了道路。 应用材料公司（AMAT）是首家在2016年推出下一代选择性刻蚀系统（又称高选择性刻蚀）的供应商。

一、刻蚀：半导体制造三大核心设备之一 刻蚀：半导体图案化关键工艺，重要性凸显 刻蚀是半导体图案化过程的核心工艺，刻蚀机被视为半导体制造三大核心设备之一。刻蚀设备主要用于去除 ...

在此前IT之家《兵进光刻机，中国芯片血勇突围战》一文中，有网友表示除了光刻机，对刻蚀机也比较感兴趣。 今天汐元就和大家讲一讲刻蚀机的那些事吧。 在开始之前先统一一下名称，“刻蚀 ...

耐蚀合金是一类在特定腐蚀介质中具有高度化学稳定性的金属材料，能够通过物理或化学机制（如形成致密氧化膜、提高热力学稳定性等）抵抗空气、水、盐、酸、碱等介质的侵蚀，从而延长 ...

缓蚀剂行业相关公司：江海环保、泰和科技(300801)、清水源(300437)、联磷化工、仙粼化工等 本文核心数据：缓蚀剂市场规模、缓蚀剂市场下游应用结构等 1、缓蚀剂行业基本概况：定义、分类 缓 ...

前几篇讲了光刻的过程，光刻是将图形转移到覆盖在半导体晶圆表面的光刻胶上的过程。为了电路生产，这些图形必须再转移到光刻胶下面组成器件的各薄层(如SiO2、Si3N4、沉积的金属层)上。

刻蚀即用化学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要的材料的过程，其基本目标是在涂胶的硅片上正确地复制掩模图形。其是半导体制造工艺中重要的一环，微电子IC制造工艺以及微纳制造 ...

受刻蚀设备与硅部件需求影响，未来刻蚀硅材料市场空间广阔。 半导体芯片下游应用潜力催生硅片与硅部件的巨大需求，其原材料硅材的消耗量也随之提升，半导体硅材料市场规模呈增长趋势。

水处理缓蚀剂是以适当的浓度和形式存在于环境(介质)中时，可以防止或减缓材料腐蚀的化学物质或复合物。我国缓蚀剂行业正在快速发展，已经产生了一批缓蚀剂代表企业，市场规模已经增长 ...

作为半导体制造工艺的核心设备之一，刻蚀设备也是掌握半导体市场命脉的关键点。然而，根据Gartner数据显示，刻蚀设备由Lam Research、TEL、AMAT三大巨头把控，合计全球市场占有率高达91％。